北京优仕锦科技发展有限公司根据半导体行业发展需要，配合光刻技术需要双面处理，开发出双面无划痕台式匀胶机，填补了国内企业在生产需求光刻工艺时，需要双面处理晶体匀胶而无法达到工艺要求。北京优仕锦公司根据这一要求，***开发出双面匀胶机，其匀胶承载体采用新型材料，“***”作为特制托盘，其特点是在匀胶时，对工艺要求较高的光刻匀胶处理时，单面匀胶后在进行双面匀胶无划痕，***的保护了表面微处理效果，是传统的铝合金制品托盘比拟不了的。同

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