用途

四***是目前微电子工业中用量比较大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四***高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、***硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、**温制冷剂、泄漏检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

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